TG146.23 TN305.92
高纯度钛是作为溅射目标用于硅半导体集成电路中的电极、配电线路。使用的材料中若Al、Ni、Cu、Fe等金属元素不纯会引起配线间短路,泄漏电流增大;K、Na等碱金属元素不纯会降低可靠性;U、Th等放射元素不纯会引起软化。因此,使用材料的纯度要高。
.用新的碘化法制造高纯度钛[J].钛工业进展,1995,12(4):19-20.
