多元涂层TiAIN性能的研究

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多元涂层TiAIN性能的研究
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1涂层沉积的条件涂层的沉积实验是在研制的JDH－l型设备上进行的，工艺条件为：氮气分压：I7（。）＝5～0·SPa；靶尺寸：钛靶di60mm、铝靶rplbo工件偏压：K一0—500V；工件温度：T—300℃一350℃工件材料：高速钢2hAIN涂层的组织与结构用PSEM一500X扫描电子显微镜观察徐层的形

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.多元涂层TiAIN性能的研究[J].钛工业进展,1997,14(4).

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