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TiNi形状记忆合金薄膜的位错与相变
中图分类号:

TG139.6 O484

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    用X射线衍射线形的傅里叶分析及电阻法,研究了溅射Ti-49.37at%Ni合金薄膜的位错组态及相转变温度随退火条件的变化规律,以及位错密度与相位温度的关系。研究结构表明:随退火温度升高和保温时间增加,平均位错密度下降,马氏体相变温度升高,位错密度的变化受析出相粒子的大小和分布制约。随位错密度增加,马氏体相变温度下降,R相变温度基本保持不变。

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单凤兰 霍艳玲. TiNi形状记忆合金薄膜的位错与相变[J].稀有金属材料与工程,1998,(4):199~201.[.[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1998,(4):199~201.]
DOI:[doi]

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