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Ti-Si-N纳米复合薄膜的结构与性能
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TG174.44

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国家自然科学基金项目（50271053,50371067）,国家自然科学基金委重大国际合作项目（50420130033）,科技部“973”重大基础研究计划项目（2004CB619302）以及教育部新世纪优秀人才支持计划项（NCET-04-0934）的共同支持


Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD
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    用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术，在高速钢（W18Cr4V）表面沉积了Ti-Si-N复合薄膜，研究了Ti-Si-N复合薄膜的微观组织和力学性能。结果显示，薄膜相结构为纳米晶TiN和纳米晶或非晶TiSi2以及非晶相Si3N4。在Si含量为5．0at％-28．0at％范围内，薄膜的晶粒尺寸逐渐变大；Ti-Si-N薄膜的显微硬度相对于TiN有明显增加，最高硬度可达40GPa：高温退火后，Ti-Si-N纳米复合薄膜的显微硬度与晶粒尺寸在800℃高温下仍然保持稳定。

    Abstract:

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    引证文献
引用本文

牛新平 马大衍 马胜利 徐可为. Ti-Si-N纳米复合薄膜的结构与性能[J].稀有金属材料与工程,2005,34(11):1751~1753.[Niu Xinping, Ma Dayan, Ma Shengli, Xu Kewei. Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1751~1753.]
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  • 收稿日期:2003-12-10
  • 最后修改日期:2005-06-03
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