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阴极电弧离子沉积TiN/Ti镀层腐蚀特性
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TG174

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Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings
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    采用电化学线性极化、交流阻抗谱技术研究了不同基片偏压上阴极电弧沉积TiN/Ti镀层在50×10-6g/gCl-溶液中的腐蚀行为,并对镀层腐蚀的机理进行了探讨。结果表明:基片偏压–400V时,镀层耐蚀性能好;镀层表面的针孔是诱发镀层和基材体系发生点蚀、电偶腐蚀的主要缺陷。

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引用本文

鲜晓斌,王庆富,刘柯钊,刘清和.阴极电弧离子沉积TiN/Ti镀层腐蚀特性[J].稀有金属材料与工程,2005,34(11):1774~1777.[Xian Xiaobin, Wang Qingfu, Liu Kezhao, Liu Qinghe. Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1774~1777.]
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  • 收稿日期:2003-12-26
  • 最后修改日期:2005-07-20
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