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CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响
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TG174.444 TG113.12

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国家“863”计划项目(2003AA305990)


Effect of Chemical Vapor Deposition Temperature on Microstructures and Properties of Molybdenum Coatings
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    摘要:

    介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法。以MoF_6和H_2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层。分析研究了沉积层的组织、结构和硬度。实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa:沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度。

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引用本文

马捷,毕安园,王从曾,周美玲. CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):1965~1968.[Ma Jie, Bi Anyuan, Wang Congzeng, Zhou Meiling. Effect of Chemical Vapor Deposition Temperature on Microstructures and Properties of Molybdenum Coatings[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1965~1968.]
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  • 收稿日期:2005-04-04
  • 最后修改日期:2005-09-23
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