+高级检索
钼基体上化学气相沉积钨功能涂层的研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TG154.5

基金项目:


CVD Tungsten Function Coatings on Molybdenum Substrate
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    采用CVD(Chemical Vapor Deposition)法沉积的钨涂层有[100]/[111]/[110]择优取向。择优取向主要受气体组分、流动速度、温度等因素的影响。研究了钼基体上CVD钨涂层的表面形貌和织构、涂层界面的元素分布、涂层的抗热震性能及高温扩散性能。结果显示:钨涂层与基体钼有2μm左右的互扩散层且钼在钨中的扩散速度更高;涂层在通H2条件下,进行室温→1400℃→室温20次循环后涂层不脱落、界面没有明显变化,涂层结合力好;涂层界面上的杂质元素氧等影响涂层的结合性能。

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

杜继红 李争显 高广睿.钼基体上化学气相沉积钨功能涂层的研究[J].稀有金属材料与工程,2005,34(12):2013~2016.[Du Jihong, Li Zhengxian, Gao Guangrui. CVD Tungsten Function Coatings on Molybdenum Substrate[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):2013~2016.]
DOI:[doi]

复制
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:2005-08-19
  • 最后修改日期:2005-11-24
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期: