热处理对TiO2溅射薄膜结构和光谱性能的影响

The Effect of the d-Electron Transition on UV-Vis Spectra and PL Spectra of TiO2 Films

摘要:

用直流反应磁控溅射法制备了TiO2薄膜,并对热处理前后试样的紫外可见光谱（UV-Vis spectrum）和荧光发射光谱（PL Spectrunm）做了研究。发现热处理后试样的紫外可见光谱在496nm处出现了一个较为明显的吸收峰，荧光发射光谱496．5nm处出现一个荧光发射带肩。X射线光电予能谱（XPS）的分析结果表明，热处理可使薄膜中晶格氧扩散出去，生成Ti^3＋离子和氧空位。结合XPS的分析结果和理论计算，可推断热处理后出现的位于496nm处的吸收峰和496．5nm处的荧光带肩可被指认为薄膜中Ti^3＋离子的d电子跃迁产生。

Abstract: