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TiO2光催化纳米薄膜的晶化处理
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TG146

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The Crystallization Heat-Treatment of the TiO2 Photocatalytic Nanofilm
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    TiO2光催化纳米薄膜在400℃~80℃温内恒温退火1h-2h,以消除膜内非晶,提高薄膜光催化活性。热处理前后试样的检测结果表明:退火使TiO2薄膜内非晶晶化,晶粒长大,光响应电流增大。随退火温度的升高,TiO2薄膜出现由非晶斗锐钛矿斗金红石的转变。其中,600℃退火1h的TiO2薄膜为锐钛矿加金红石的混晶结构,光电流密度最大Iuv=41.2A/m^2,光催化活性最好。

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引用本文

张玉娟 沈嘉年. TiO2光催化纳米薄膜的晶化处理[J].稀有金属材料与工程,2006,35(1):92~95.[Zhang Yujuan, Shen Jianian. The Crystallization Heat-Treatment of the TiO2 Photocatalytic Nanofilm[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(1):92~95.]
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  • 最后修改日期:2005-03-04
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