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脉冲直流PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜
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TB383

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国家自然科学基金项目(50271053,50371067),973计划项目(2004CB619302)和国家自然科学基金委重大国际合作项目(50420130033)资助


New Super Hard Ti-Si-C-N Nanocomposite Coatings Deposited by Pulsed DC Plasma CVD
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    用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)基材表面沉积新型四元Ti-Si-C-N复合超硬薄膜。结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由面心立方结构的TiN和TiC纳米晶、Ti(C,N)固溶体及存在于晶界的非晶Si3N4和α-C组成,形成TiN/TiC/Ti(C,N)/α-C/α-Si3N,复相结构,这种复相结构存在着[111],[220]和[200]混合择优取向。SiCl4和CH4流量变化是影响薄膜相组成和硬度变化的主要工艺参数。随Si含量的增加,薄膜的显微硬度先升后降,表面形貌由致密的细颗粒状变为粗大的枝条状;C元素的加入能抑制柱状晶的形成,对硬度影响较小。

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引用本文

畅庚榕 郭岩 马胜利 徐可为.脉冲直流PCVD制备新型Ti-Si-C-N纳米复合超硬薄膜[J].稀有金属材料与工程,2006,35(5):824~827.[Chang Gengrong, Guo Yan, Ma Shengli, Xu Kewei. New Super Hard Ti-Si-C-N Nanocomposite Coatings Deposited by Pulsed DC Plasma CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(5):824~827.]
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  • 收稿日期:2005-03-14
  • 最后修改日期:2005-11-09
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