不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究

Properties of TiN Films on Uranium Surface by Arc Ion Plating under Different Bias Voltages

摘要:

不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射（XRD）分析了薄膜的微观组织结构，用扫描电镜（SEM）观察其表面形貌。结果表明：所得薄膜为单一TiN结构，薄膜表面平整、致密，但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能。随偏压的上升，摩擦系数由0．421变为0．401。同时利用X射线光电子能谱分析仪（XPS）对湿热腐蚀20d后的样品进行了分析，并利用电化学极化实验在0．5μg/g CT溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能。结果表明：TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能。

Abstract: