模板法电化学沉积超长铜纳米线制备及其性能

Preparation and Characterization of Electrodeposited Ultrolong Copper Nanowires Based on AAO Template

摘要:

用恒电位电化学沉积法，尝试在氧化铝模板纳米孔内制备超长铜纳米线。透射电子显微镜（TEM）和扫描电子显微镜（SEM）分析结果表明：在较低的沉积电位下，纳米线表面较为光滑且呈现条纹结构，直径均匀，大约100nm，线长可达40-50μm，放置一段时间后离解成颗粒状；较高沉积电位下，纳米线的边缘粗糙不平，主要由晶粒连接而成，晶粒之间有空隙存在。金属纳米线的生长实际上是金属颗粒的堆积过程，金属原子之间无较强的化学键存在。由X射线衍射（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）分析得知，低电位下所得纳米线为单晶结构，沿[111]方向生长，而高电位下则出现了孪晶结构。

Abstract: